光學顯微鏡與掃描電鏡的區(qū)別
不同的成像原理：光學顯微鏡利用幾何光學成像原理獲取圖像，電子顯微鏡利用高能電子束轟擊樣品表面，激發(fā)樣品表面的各種物理信號，然后利用不同的信號探測器接收物理信號并轉(zhuǎn)換成圖像信息。
成像原理不同：光學顯微鏡利用幾何光學成像原理進行成像，電子顯微鏡利用高能量電子轟擊地球，激發(fā)出地面的各種物理信號，再利用不同的信號轉(zhuǎn)化成圖像接收信號。
分辨率不同：由于光的干涉和衍射，光學顯微鏡的分辨率被限制在0.2-0.5um之間。由于以電子束為光源，電子顯微鏡的分辨率可達1-3nm，因此光學顯微鏡觀察屬于微米級分析，電子顯微鏡微觀結(jié)構(gòu)觀察屬于納米級分析。
電子顯微鏡光譜吸收光譜作為光源，其分辨率可達到 1-3nm 之間，因此光學顯微鏡光譜儀光譜儀采用不同的分辨率：光學顯微鏡光譜儀光學的干涉與影響作用，可能會影響光學顯微鏡。組織的觀察屬于微米級分析，電子顯微鏡組織屬于納米級。
深度不同：一般光學顯微鏡的深度在2-3um之間，對樣品表面光滑度要求高，制樣過程相對復雜。SEM深度可達數(shù)毫米，因此對樣品表面的光滑程度沒有任何要求，制樣相對簡單，甚至有些樣品幾乎不需要制樣。盡管立體顯微鏡具有很大的深度，但其分辨率卻很低。
深景不同：一般光學顯微鏡的景深在2-3毫米之間，因此對樣品的高度要求非常高，所以制樣過程相對比較復雜。掃描電鏡的景深則可長達幾個毫米，因此對樣品而言地面的精確幾何沒有任何要求，樣品制作比較簡單，*不需要制樣。
我們的光學電子顯微鏡是飛納掃描電鏡制造商荷蘭 Phenom World 公司與熒光顯微鏡制造商荷蘭 Delmic 于 2015 年聯(lián)合推出的*款將熒光顯微鏡和掃描電鏡高度集成在一起的設(shè)備。2015 年，德飛熒光掃描電鏡一體機 Delphi正式進入中國市場。
光學電子顯微鏡是世界上采用 Automatic Overlap (自動交疊) 技術(shù)的設(shè)備，簡單的說，。借助該設(shè)備，用戶可把光學顯微鏡所包含的豐富信息和掃描電鏡所*的超高分辨率*結(jié)合在一起，觀察研究樣品納米尺度范圍的動態(tài)過程，精確定位細胞和有機體中所發(fā)生的特定事件。通過在熒光圖像中疊加掃描電鏡圖像，實現(xiàn)在一張圖像中同時得到樣品精細結(jié)構(gòu)和功能物質(zhì)的信息。
